章宸点头。「对。追光产线的均匀性一点五，已经是国内最高水平了，甚至比旧秩序的一些产线还好。但存算一体架构对均匀性的要求，不是一点五，而是一点零。我们的设计，超出了产线的能力边界。或者说，产线的能力边界，比我们预想的窄。」

林薇在白板上写下了几个关键词:「设计-工艺协同优化」。

「章宸的发现很重要。天权4号的问题，不是追光产线不行，而是我们的设计流程里缺了一个环节——设计-工艺协同优化。设计团队用理想的工艺模型做仿真，制造团队用现实的产线能力做生产，两个模型之间的偏差，就是晶片性能差异的来源。」

「天权5号，不能再犯同样的错误。从今天开始，设计团队和制造团队要共用同一个工艺模型。这个模型，必须基于追光产线的实际测试数据，不是理想值，是统计分布。设计团队在做仿真的时候，要用这个模型跑蒙特卡洛分析，看看设计在工艺偏差下的鲁棒性。」

章宸说:「这个方向对。但有一个问题——工艺模型的建立，需要大量的测试数据。追光产线虽然跑了一年多，但数据积累还不够。要建立高精度的统计模型，至少需要一万片晶圆的测试数据。我们现在只有三千片。」

老韩插了一句:「数据不够，可以加测。合城产线现在每周跑两百片追光三期的晶圆，每片晶圆做完电测试后，数据自动上传到中央资料库。按照这个速度，两个月内就能凑够一万片。」

林薇说:「好。老韩，你负责协调产线的测试资源。章宸，你负责设计数据采集的规格和格式。赵静，你负责用AI模型分析数据，找出工艺参数和晶片性能之间的关联规律。两个月后，我要看到一个可用的设计-工艺协同优化模型。」

三人同时点头。

会议进入第二个议题——天权4L的亚阈值设计是否也存在同样的问题。

孙总监调出了天权4L的设计文档。「天权4L用的是亚阈值电路技术，电晶体工作在阈值电压附近，对工艺偏差的敏感度比传统电路高一个数量级。天权4号的百分之五偏差，到了天权4L上，可能会放大到百分之二十到三十。」